今天為廣大朋友介紹的是——循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)方法
循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)及旁流水處理方法，該旁流水處理系統(tǒng)包括旁流取水單元;與旁流取水單元連接的電化學水處理裝置，電化學水處理裝置中包括反應室;反應室的底端設有入口和排污口，且上端設有出口;設置在反應室內(nèi)部頂端的陽極;位于反應室和陽極之間的刮刀;及驅(qū)動刮刀的驅(qū)動裝置;驅(qū)動裝置位于所述反應室的下方;與電化學水處理裝置連接的旋液分離器，其溢流口與循環(huán)水系統(tǒng)相連;與反應室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。該旁流水處理系統(tǒng)通過控制水量、礦物質(zhì)、懸浮物和生態(tài)四個平衡，將水質(zhì)控制在適當?shù)姆秶鷥?nèi)，從而解決循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中結(jié)垢、腐蝕、懸浮物和微生物的問題。
1.一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，用于處理循環(huán)水系統(tǒng)中部分循環(huán)水，其特征在于，包括：
旁流取水單元;
與所述旁流取水單元連接的電化學水處理裝置，所述電化學水處理裝置中包括反應室;
所述反應室的底端設有入口和排污口，且上端設有出口;
設置在所述反應室內(nèi)部頂端的陽極;
位于所述反應室和陽極之間的刮刀;
及驅(qū)動所述刮刀的驅(qū)動裝置;所述驅(qū)動裝置位于所述反應室的下方;
與所述電化學水處理裝置連接的旋液分離器，所述旋液分離器設有進料口、溢流口和底流口，所述溢流口與所述循環(huán)水系統(tǒng)相連，所述進料口與所述反應室的出口相連;
與所述反應室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括控制單元，所述控制單元用于分別控制旁流取水單元、電化學水處理裝置、旋液分離器和排污單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括人工檢測校驗單元;
所述人工檢測校驗單元用于調(diào)整控制單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括與控制單元連接的遠程監(jiān)控單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述排污單元包括儲污倉;所述儲污倉設置有排污入口和排污出口;
所述反應室的排污口和所述儲污倉的排污入口相連。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，其特征在于，所述旋液分離器的底流口與儲污倉的排污入口相連。
7.一種根據(jù)權(quán)利要求1～6任一項所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水旁流水的方法，包括以下步驟：
將旁流取水單元中的待處理水通入到電化學水處理裝置中，得到電解處理后的水、消毒物質(zhì)和水垢;
將所述電解處理后的水和消毒物質(zhì)通入到旋液分離器中，得到懸液分離處理后的水、消毒物質(zhì)和懸浮物，所述懸液分離處理后的水和消毒物質(zhì)輸送到所述循環(huán)水系統(tǒng)中;
將所述水垢和懸浮物通入到排污單元中進行處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述電化學水處理裝置中的循環(huán)冷卻水的停留時間TAR按照下述反應式進行計算：
TAR=V÷L=(K-1)×V÷Qe;
其中，V為循環(huán)水系統(tǒng)保有體積，m3;
L為損失(Qb+Qd);Qb為排污量;Qd為飛濺或風吹損失量;
實際或運行濃縮倍數(shù)：K=Qm÷(Qb+Qd);Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補加水量;
蒸發(fā)量Qe=Q×F×(ΔT×1.8÷1000)，Q為循環(huán)冷卻水循環(huán)量;F為顯冷校正系數(shù)，年平均0.75，冬季為0.65，夏季為0.85;ΔT為冷卻塔溫度差。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述排污單元按照下述反應式得到的排污時間進行排污：
t=3600×(Qm÷(f×K×Q1)-Qd÷(f×Q1))
其中，Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補加水量;
Qd為冷卻塔飛濺損失;
Q1為旁流處理量;
t為排污時間;
f為排污頻率;
K為實際或運行濃縮倍數(shù)，循環(huán)水與補水中硫酸根的比值，無量綱。
循環(huán)冷卻水系統(tǒng)是以水作為冷卻介質(zhì)，由換熱設備、冷卻設備、水泵、管道及其它有關設備組成，并循環(huán)使用的一種給水系統(tǒng)。旁流水，是從循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中分流并經(jīng)處理后，再返回循環(huán)冷卻水系統(tǒng)的那部分水。
循環(huán)冷卻水是指通過換熱器交換熱量或直接接觸換熱方式來交換介質(zhì)熱量并經(jīng)冷卻塔冷卻后，循環(huán)使用，以節(jié)約水資源。一般情況下，循環(huán)冷卻水是中性或弱堿性的，pH值控制在7～9.5之間。水經(jīng)過冷卻塔降溫之后(通常蒸發(fā)掉1～2%可以將剩下的98～99%的水的溫度降低5～10℃)，重新回到換熱器吸收熱量，如此循環(huán)不止;水循環(huán)過程中蒸發(fā)掉的是純水，水中的鹽份則會不斷濃縮，溶解鹽類的濃度不斷升高;難溶鹽或微溶鹽的濃度達到飽和濃度以上時，就會結(jié)晶析出，成為水垢，碳酸鈣則是循環(huán)水系統(tǒng)中比較為常見的水垢。同時冷卻塔中的循環(huán)水溫度一般為30℃左右，微生物滋生也是循環(huán)冷卻水中常見的問題。循環(huán)冷卻水在循環(huán)運行過程中不可避免地對換熱設備產(chǎn)生一系列的危害，即水垢、污垢的沉積、腐蝕的加劇、菌藻的滋生等，如不進行有效治理，循環(huán)冷卻水系統(tǒng)則很難正常運行。
目前，現(xiàn)有技術(shù)采用投加化學藥劑的方式處理循環(huán)冷卻水中的水垢、污垢的沉積、腐蝕的加劇、菌藻的滋生等問題，但是傳統(tǒng)加藥方式無法在線消毒，殺菌滅藻劑投加是間歇投加的，微生物在兩次投加之間會滋生，造成微生物和懸浮物問題;排污也是間歇式排污，碳酸鈣飽和指數(shù)LSI和穩(wěn)定指數(shù)RSI波動范圍大，結(jié)垢和腐蝕也難以得到穩(wěn)定的控制。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)及旁流水處理方法，本發(fā)明提供的旁流水處理系統(tǒng)能夠同時解決循環(huán)冷卻水的腐蝕、結(jié)垢、微生物和懸浮物問題。
本發(fā)明提供了一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，用于處理循環(huán)水系統(tǒng)中部分循環(huán)水，包括：
旁流取水單元;
與所述旁流取水單元連接的電化學水處理裝置，所述電化學水處理裝置中包括反應室;
所述反應室的底端設有入口和排污口，且上端設有出口;
設置在所述反應室內(nèi)部頂端的陽極;
位于所述反應室和陽極之間的刮刀;
及驅(qū)動所述刮刀的驅(qū)動裝置;所述驅(qū)動裝置位于所述反應室的下方;
與所述電化學水處理裝置連接的旋液分離器，所述旋液分離器設有進料口、溢流口和底流口，所述溢流口與所述循環(huán)水系統(tǒng)相連，所述進料口與所述反應室的出口相連;
與所述反應室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。
優(yōu)選地，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括控制單元，所述控制單元用于分別控制旁流取水單元、電化學水處理裝置、旋液分離器和排污單元。
優(yōu)選地，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括人工檢測校驗單元;
所述人工檢測校驗單元用于調(diào)整控制單元。
優(yōu)選地，所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)還包括與控制單元連接的遠程監(jiān)控單元。
優(yōu)選地，所述排污單元包括儲污倉;所述儲污倉設置有排污入口和排污出口;
所述反應室的排污口和所述儲污倉的排污入口相連。
優(yōu)選地，所述旋液分離器的底流口與儲污倉的排污入口相連。
本發(fā)明提供了一種根據(jù)上述技術(shù)方案所述循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水旁流水的方法，包括以下步驟：
將旁流取水單元中的待處理水通入到電化學水處理裝置中，得到電解處理后的水、消毒物質(zhì)和水垢;
將所述電解處理后的水和消毒物質(zhì)通入到旋液分離器中，得到懸液分離處理后的水、消毒物質(zhì)和懸浮物，所述懸液分離處理后的水和消毒物質(zhì)輸送到所述循環(huán)水系統(tǒng)中;
將所述水垢和懸浮物通入到排污單元中進行處理。
優(yōu)選地，所述循環(huán)冷卻水在循環(huán)水系統(tǒng)中的停留時間TAR按照下述反應式進行計算：
TAR=V÷L=(K-1)×V÷Qe;
其中，V為循環(huán)水系統(tǒng)保有體積，m3;
L為損失(Qb+Qd);Qb為排污量;Qd為飛濺或風吹損失量;
實際或運行濃縮倍數(shù)：K=Qm÷(Qb+Qd);Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補加水量;
蒸發(fā)量Qe=Q×F×(ΔT×1.8÷1000)，Q為循環(huán)冷卻水循環(huán)量;F為顯冷校正系數(shù)，年平均0.75，冬季為0.65，夏季為0.85;ΔT為冷卻塔溫度差。
優(yōu)選地，所述排污單元按照下述反應式得到的排污時間進行排污：
t=3600×(Qm÷(f×K×Q1)-Qd÷(f×Q1))
其中，Qm為循環(huán)水系統(tǒng)補加水量;
Qd為冷卻塔飛濺損失;
Q1為旁流處理量;
t為排污時間;
f為排污頻率;
K為實際或運行濃縮倍數(shù)，循環(huán)水與補水中硫酸根的比值，無量綱。
本發(fā)明提供了一種循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)，用于處理循環(huán)水系統(tǒng)中部分循環(huán)水，包括：旁流取水單元;與所述旁流取水單元連接的電化學水處理裝置，所述電化學水處理裝置中包括反應室;所述反應室的底端設有入口和排污口，且上端設有出口;設置在所述反應室內(nèi)部頂端的陽極;位于所述反應室和陽極之間的刮刀;及驅(qū)動所述刮刀的驅(qū)動裝置;所述驅(qū)動裝置位于所述反應室的下方;與所述電化學水處理裝置連接的旋液分離器，所述旋液分離器設有進料口、溢流口和底流口，所述溢流口與所述循環(huán)水系統(tǒng)相連，所述進料口與所述反應室的出口相連;與所述反應室的排污口和旋液分離器的底流口連接的排污單元。本發(fā)明提供的系統(tǒng)中的電化學水處理裝置能夠控制水的結(jié)垢和微生物的滋生;旋液分離器能夠分離循環(huán)冷卻水中的懸浮物和捕捉從電化學水處理裝置中逃逸的水垢結(jié)晶;排污單元將電化學水處理裝置中的水垢和旋液分離器中的懸浮物以及部分循環(huán)冷卻水排出系統(tǒng)之外，實現(xiàn)循環(huán)冷卻水中的礦物質(zhì)平衡，維持碳酸鈣在穩(wěn)定狀態(tài)，易腐蝕離子濃度處于安全范圍內(nèi)，從而控制循環(huán)冷卻水的腐蝕問題，因此，該循環(huán)冷卻水旁流水處理系統(tǒng)通過控制水量、礦物質(zhì)、懸浮物和生態(tài)四個平衡，將水質(zhì)控制在適當?shù)姆秶鷥?nèi)，從而解決循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中結(jié)垢、腐蝕、懸浮物和微生物的問題，保證循環(huán)水系統(tǒng)安全高效運行。實驗結(jié)果表明：本發(fā)明提供的旁流處理系統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水后返回到循環(huán)水系統(tǒng)中，循環(huán)水系統(tǒng)中的循環(huán)冷卻水的濁度在20NTU以下;LSI維持在1.0～2.0之間;RSI維持在4.0～6.0之間。
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